한국의 특허법 및 실용신안법 개정 (발명의 배경기술 기재 의무화)
2011년 3월 30일 실용신안법 개정안이 국회에서 의결되어 2011년 7월 1일부터 시행된다. 한편 동일한 내용을 포함하는 특허법 개정안이 국회에서 심의되고 있으며, 4월 중에 국회를 통과하여 실용신안법과 같이 2011년 7월 1일부터 시행될 것으로 예상된다.
특허법 및 실용신안법의 개정 내용은 발명의 상세한 설명에 “발명의 배경이 되는 기술을 기재할 것”이라는 규정을 신설한 것이다.
이 규정을 위반한 출원은 거절되지만, 특허등록후에는 이 규정이 특허무효사유는 되지 않는다.
특허청 관계자는 현재 배경기술의 기재정도에 대한 심사기준을 마련하고 있으며, 출원 후 배경기술을 추가 보정하는 것도 허용할 것이라고 말했다.